化學(xué)氣相沉積爐
如果您對該產(chǎn)品感興趣的話,可以
產(chǎn)品名稱: 化學(xué)氣相沉積爐
產(chǎn)品型號: HTT-CVD
產(chǎn)品展商: 其它品牌
產(chǎn)品文檔: 無相關(guān)文檔
簡單介紹
CVD化學(xué)氣相沉積爐由開啟式單（雙）溫區(qū)管式爐、高真空分子泵系統(tǒng)、壓強(qiáng)控制儀及多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)組成。CVD化學(xué)氣相沉積爐可實(shí)現(xiàn)真空達(dá)0.001Pa混合氣體化學(xué)氣相沉積和擴(kuò)散試驗(yàn)。
化學(xué)氣相沉積爐
的詳細(xì)介紹
主要功能和特點(diǎn)：
1、高真空系統(tǒng)由雙級旋片真空泵和分子泵組成，*高真空可達(dá)0.0001Pa；
2、可配合壓強(qiáng)控制儀控制氣體壓力實(shí)現(xiàn)負(fù)壓的精準(zhǔn)控制；
3、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計(jì)，流量顯示儀等組成，實(shí)現(xiàn)氣體的流量的精密測量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統(tǒng)的**性和連續(xù)均勻性。
4、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；管路采用世界*Swagelok卡套連接，不漏氣；
5、超溫、過壓時，自動切斷加熱電源及流量計(jì)進(jìn)氣，使用**可靠。
主要用途：
高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD/CVI實(shí)驗(yàn)，特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長、電池材料干燥燒結(jié)等場所。
主要技術(shù)參數(shù)：
|
SKGL-1200
|
控溫方式
|
采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能，并可編制30段升降溫程序。
|
|
加熱元件
|
0Cr27Al7Mo2
|
|
工作電源
|
AC220V 50HZ/60HZ
|
|
額定功率
|
4KW
|
|
爐管尺寸
|
Φ60/Φ80/Φ100*1000mm
|
|
工作溫度
|
≤1150℃
|
|
*高溫度
|
1200℃
|
|
恒溫精度
|
±1℃
|
|
加熱區(qū)長度
|
440mm或220mm/220mm
|
|
升溫速度
|
≤20℃/min
|
|
密封方式
|
不銹鋼快速法蘭擠壓密封
|
|
ZK-F
|
真空范圍
|
0.1-0.001Pa
|
|
極限真空
|
4.0*10^-4Pa
|
|
產(chǎn)品配置
|
雙級旋片真空泵+分子泵
|
|
測量方式
|
復(fù)合真空計(jì)
|
|
真空規(guī)管
|
電阻規(guī)+電離規(guī)
|
|
冷卻方式
|
風(fēng)冷
|
|
工作電源
|
AC220V 50/60HZ
|
|
抽速
|
110L/S
|
|
ZDFC-Ⅲ
|
測量范圍
|
5～1*10^-5 Pa
|
|
穩(wěn)壓(真空)范圍
|
1～5*10^-3Pa
|
|
壓力(真空)穩(wěn)定精度）
|
±3%
|
|
控制范圍
|
2.5*10^3～1*10^-4 Pa
|
|
控制精度
|
± 1%
|
|
HQZ-Ⅲ
|
控制方式
|
D07-7K質(zhì)量流量計(jì),D08流量顯示儀
|
|
流量規(guī)格
|
0－500SCCM /0－1SLM,（可根據(jù)客戶需要配置）
|
|
線性
|
±1%F.S
|
|
準(zhǔn)確度
|
±1%F.S
|
|
重復(fù)精度
|
±0.2%F.S.
|
|
響應(yīng)時間
|
≤2sec
|
|
耐壓
|
3MPa
|
|
氣路通道
|
3通道（根據(jù)客戶需求）
|
|
針閥
|
316不銹鋼
|
|
管道
|
Φ6mm不銹鋼管
|
|
接口
|
SwagelokΦ6mm
|